국내 산학연 반도체 공정기술 전문가 정보 교류의 장
한국표준과학연구원(KRISS, 원장 신용현)이 12월 10일(목) KRISS 기술지원동 세미나실에서 제9회 반도체 공정진단 워크숍을 개최했다.
차세대 반도체 기술의 핵심이 되는 실시간 공정 모니터링 및 분석 기술 개발을 주제로 열리는 이번 워크숍에는 관련 산학연 전문가 100여 명이 참석하여 반도체 공정 및 장비 기술 자립화를 위한 정보를 공유하였다.
현재 우리나라 반도체 소자제조 기술은 세계 최고 수준의 경쟁력을 갖고 있다. 하지만 반도체 공정 및 장비를 실시간으로 모니터링하고 분석하는 진단기술은 여전히 취약한 실정으로 실시간 진단기술을 통해 수율향상을 이끌어내는 것이 중요하다.
이번 워크숍에서는 ▲초박막 공정을 위한 플라즈마 진단 표준화 ▲플라즈마 모니터링 시스템 ▲실시간 공정입자 복합특성 측정 장치 ▲레이저홀로그램과 신경망을 이용한 플라즈마 모니터링 ▲반도체/OLED 증착소재 및 장비부품 코팅소재 평가방법 등이 논의되었다.
또한 KRISS 진공기술센터 윤주영 센터장은 “지난 9년 동안 반도체 공정진단 워크숍을 통해 국내 반도체 공정진단기술 관련 산학연 전문가들이 한 자리에 모일 수 있었다. 앞으로도 행사를 지속적으로 개최해 국내 반도체 기술 향상 및 장비 국산화를 이루는데 노력할 것이다.”라고 말했다.
KRISS는 2007년부터 매년 반도체 공정진단 워크숍을 개최하고 있으며 이번 행사는 9회째 행사이다.
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